8月2日，中微公司宣布启用其位于上海临港的产业化基地。该基地配备先进生产车间及智能化立体仓库等设施，标志着20周岁的中微公司进入新发展阶段。
中微公司创始人、董事长兼总经理尹志尧在致辞中表示，中微目标是2035年在规模和竞争力上成为全球第一流的半导体设备公司。
尹志尧是1944年生人，今年已有80岁。他在现场动情表示，已经带领中微20年，期待20年后在庆祝中微公司40周年之时再相聚。
新基地启用
花甲之年的尹志尧回国创办了中微公司，从2004年一张白纸开始，成为2019年首批科创板上市企业；从当初一支仅有15人的创业团队，逐渐成长为如今全球员工超过两千人。
中微公司的版图也在扩张，从张江高科技园区内一间不起眼的办公室，到足迹遍布全球。目前，中微公司的客户遍布中国大陆和中国台湾、新加坡、韩国、德国、意大利等10多个国家和地区。
而最新启用的临港产业化基地将成为中微公司重要的生产基地，据介绍，该基地占地约157亩、总建筑面积约18万平方米，配备实验室、洁净室、生产车间及智能化立体仓库等设施，可实现生产全程数字化、智能化管理。
据悉，临港产业化基地采用先进厂务管理系统，配备智能化立体仓库，实现了对制造资源跟踪、生产过程监控。
21世纪经济报道记者在现场参观了基地的生产车间和智慧仓储平台等，工作人员已进入到常态化的规模生产中。
此前的2023年7月，14万平方米的中微公司南昌生产研发基地落成并投入使用；目前，位于滴水湖畔的中微临港总部暨研发大楼也正在建设中，建成后占地面积约10万平方米。未来，中微公司的生产和研发基地总面积将达到约45万平方米。
据工作人员介绍，到2024年公司累计已有超5000个反应台在国内外130多条生产线实现量产和大规模重复性销售。
推动设备国产化
在中国半导体设备行业的飞速发展下，近5年，中微公司营收和净利润均保持两位数及以上增长。今年第一季度，中微公司营收16亿元，同比增长31%；归母净利润2.49亿元，同比下降9.53%；扣非净利润2.63亿元，同比增长15.40%。
中微公司作为中国半导体设备龙头，见证并引领了国产半导体设备的发展和崛起。中微公司主营产品包括半导体等离子刻蚀设备和用于LED的金属气相沉积设备。其中，等离子体刻蚀设备是除光刻机以外最关键的微观加工设备，是制程步骤最多、工艺过程开发难度最高的设备。
“一根头发的直径是70微米，以一颗5纳米制程的芯片元器件为例，公司的微观加工设备，就相当于在一根头发的1.4万分之一尺度上盖高楼大厦。”中微公司的一位工作人员这样形象地向记者介绍。
据了解，凭借行业首创的刻蚀设备双台机技术，中微公司率先提出“皮米级”加工精度概念，其刻蚀精度已经达到100“皮米”以下水平，相当于头发丝350万分之一的精准度，并且产品具备刻蚀应用覆盖丰富等优势，能够满足90%以上的刻蚀应用需求，技术能力已覆盖5纳米及以下更先进水平。
在年初举办的2023年业绩说明会上，尹志尧曾透露，公司布局了第四大设备市场——光学检测设备。其表示，电子束检测设备是当下集成电路产业的一个绝对短板，这个领域是未来市场需求最大的、最关键的半导体设备之一，未来会考虑涉及这一领域。
值得一提的是，在临港基地启用当天，多位半导体界的关键人物来到现场，包括中芯国际创始人张汝京、长江存储董事长陈南翔……他们都是推动使用国产半导体设备的“吃螃蟹者”。
张汝京说，“在设备制造上我们已经有一流人才。从全球来看，除了光刻机生产我们还有差距，其他半导体设备我们基本上都追上了。就算有一些还有差距，但差距也比较小。”他还鼓励国内的半导体设备企业可以“走出去”，到海外市场参与全球竞争。
